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Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡

簡要描述：Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡
具有高反射率的寬帶和激光線介電反射鏡（在規定的較小範圍內(nei) 大於(yu) 99％），可在0°至45°的所有入射角下工作。寬帶和激光線反射鏡適用於(yu) 280-400 nm，349-355 nm，400-750 nm，524-532 nm，532 + 1064 nm，750-1100 nm，1047-1064 nm波長範圍。

產品品牌：Eksma
廠商性質：代理商
更新時間：2021-03-22
訪問量：1010

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詳細介紹

品牌	Eksma	價格區間	麵議
組件類別	雷竞技竞彩底金	應用領域	醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡

Eksma 0至45°AOI的寬帶和激光線反射鏡

寬帶介電反射鏡在280-400 nm，400-750 nm，750-1100 nm波長範圍內(nei) 從(cong) 0°到45°的所有入射角均可工作。

產(chan) 品介紹

Ø對於(yu) （s + p）/ 2偏振，Ravg> 99％，可在0至45°的所有入射角下工作

Ø激光損傷(shang) 閾值> 1 J / cm2，脈衝(chong) 為(wei) 8納秒，典型值為(wei) 1064 nm

具有高反射率的寬帶和激光線介電反射鏡（在規定的較小範圍內(nei) 大於(yu) 99％），可在0°至45°的所有入射角下工作。寬帶和激光線反射鏡適用於(yu) 280-400 nm，349-355 nm，400-750 nm，524-532 nm，532 + 1064 nm，750-1100 nm，1047-1064 nm波長範圍。

EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。

產(chan) 品型號

基材: UVFS

型號	材料	D	ET	R, % (S+P)/2	AOI	波長
041-0257-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	257 nm
042-0257-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	257 nm
086-2840-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	280-400 nm
082-2840-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	280-400 nm
041-0350-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.5%	0-45°	343-355 nm
042-0350-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.5%	0-45°	343-355 nm
086-4075-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
082-4075-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
085-4075-i0-45	UVFS	50.8 mm	8 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
041-0530HHR-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.9%	0-45°	524-532 nm
042-0530HHR-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.9%	0-45°	524-532 nm
061-5306HHR-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.7%	0-45°	532+1064 nm
062-5306HHR-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.7%	0-45°	532+1064 nm
086-7511-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
082-7511-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
085-7511-i0-45	UVFS	50.8 mm	8 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
041-0800HHR-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.9%	0-45°	760-840 nm, Low GDD
042-0800HHR-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.9%	0-45°	760-840 nm, Low GDD
041-1060HHR-i0-45	UVFS	12.7 mm	6 mm	99.7%	0-45°	1047-1064 nm
042-1060HHR-i0-45	UVFS	25.4 mm	6 mm	99.7%	0-45°	1047-1064 nm

基材: BK7

型號	材料	D	ET	R, % (S+P)/2	AOI	波長
076-4076-i0-45	BK7	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
072-4075-i0-45	BK7	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
075-4075-i0-45	BK7	50.8 mm	8 mm	99.0%	0-45°	400-750 nm
076-7511-i0-45	BK7	12.7 mm	6 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
072-7511-i0-45	BK7	25.4 mm	6 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm
075-7511-i0-45	BK7	50.8 mm	8 mm	99.0%	0-45°	750-1100 nm

基材

材料	UV級熔融石英
S1表麵平整度	λ/10 typical at 633 nm
S1表麵質量	20-10 表麵光潔度 (MIL-PRF-13830B)
S2表麵質量	簡單拋光
直徑公差	+ 0.00 mm, - 0.12 mm
厚度公差	± 0.25 mm
楔	< 3 minutes
倒角	0.3 mm at 45° typical

鍍膜

技術	電子束多層電介質
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶於(yu) 實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
損傷(shang) 閾值	1 J / cm2，8納秒脈衝(chong) ，典型值1064 nm
鍍膜表麵平整度	633 nm處的λ/ 10超過直徑的85％
入射角	從(cong) 0°到45°

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