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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 雷竞技竞彩底金 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1
990-0070M
Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1
具有ø17 mm通光孔徑的電動可變衰減器，由兩(liang) 個(ge) 薄膜Brewster型偏振片和λ/ 2波片安裝在精密的電動旋轉安裝座中。衰減器是為(wei) 許多流行的激光波長設計的。
產(chan) 品介紹
該電動可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。適配器中裝有兩(liang) 個(ge) 薄膜Brewster型偏振片，它們(men) 反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉平台960-0161中。
可以通過旋轉波片連續改變這兩(liang) 個(ge) 光束的強度比，而不會(hui) 改變其他光束參數。可以在很寬的動態範圍內(nei) 控製出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°，並獲得較大的偏振對比度。
注意：控製器和電源應單獨訂購。
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
產(chan) 品型號
適用於(yu) Nd：YAG激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷(shang) 閾值 | 配置 |
990-0070-355M | 355 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-355M+CP | 355 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
990-0070-532M | 532 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-532M+CP | 532 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
990-0070-1064M | 1064 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | without controller & power supply |
990-0070-1064M+CP | 1064 nm | 5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm | with controller & power supply |
飛秒應用
型號 | 波長 | 激光損傷(shang) 閾值 | 配置 |
990-0070-257M | 257 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-257M+CP | 257 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-266M | 266 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-266M+CP | 266 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-343M | 343 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-343M+CP | 343 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400M | 400 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400M+CP | 400 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400BM | 390-410 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400BM+CP | 390-410 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515M | 515 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515M+CP | 515 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515BM | 505-525 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515BM+CP | 505-525 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800M | 800 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800M+CP | 800 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800BM | 780-820 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800BM+CP | 780-820 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030M | 1030 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030M+CP | 1030 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030BM | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030BM+CP | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
適用於(yu) 高功率飛秒應用
型號 | 波長 | 激光損傷(shang) 閾值 | 配置 |
990-0070-257HM | 257 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-257HM+CP | 257 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-266HM | 266 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-266HM+CP | 266 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-343HM | 343 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-343HM+CP | 343 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400HM | 400 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400HM+CP | 400 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-400HBM | 390-410 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-400HBM+CP | 390-410 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515HM | 515 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515HM+CP | 515 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-515HBM | 505-525 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-515HBM+CP | 505-525 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800HM | 800 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800HM+CP | 800 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-800HBM | 780-820 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-800HBM+CP | 780-820 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030HM | 1030 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030HM+CP | 1030 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
990-0070-1030HBM | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | without controller & power supply |
990-0070-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm | with controller & power supply |
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
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公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
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EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
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