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Eksma ND：YAG激光脈衝的電動可變衰減器

簡要描述：Eksma ND：YAG激光脈衝(chong) 的電動可變衰減器
該可變衰減器/分束器由直徑為(wei) 50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，並安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4毫米（用於(yu) 飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用於(yu) 高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，並放置在入射的線性偏振激光束中。

  • 產品品牌：Eksma
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2021-03-19
  • 訪  問  量：1120

詳細介紹

品牌Eksma價格區間麵議
組件類別雷竞技竞彩底金應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 飛秒級和ND：YAG激光脈衝(chong) 的電動可變衰減器990-0072M


Eksma ND：YAG激光脈衝(chong) 的電動可變衰減器

具有ø22 mm通光孔徑的電動可變衰減器，由薄膜偏振片，半波片和光機械組成，易於(yu) 設置。波片的電動旋轉允許連續改變輸出光束的強度比。

產(chan) 品介紹

Ø將激光束分為(wei) 兩(liang) 束手動調節的強度比，以68°角分開

Ø大動態範圍

Ø透射光束偏移〜1毫米

Ø高光學損傷(shang) 閾值

該可變衰減器/分束器由直徑為(wei) 50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，並安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4毫米（用於(yu) 飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用於(yu) 高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，並放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉波片來連續改變那兩(liang) 個(ge) 分離且不同的偏振光束的強度比，而無需改變其他光束參數。可以在很寬的動態範圍內(nei) 控製出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

840-0056-12運動學安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調整為(wei) ±4.5°，並獲得較大的消光對比度。支架位於(yu) 杆，杆支架和可移動基座820-0090上。

距桌麵的光軸高度可以在78-88 mm的範圍內(nei) 調節。可以提供其他高度作為(wei) 定製，以將標準杆和杆架更改為(wei) 更高的高度。

Eksma ND：YAG激光脈衝(chong) 的電動可變衰減器

產(chan) 品型號

飛秒激光脈衝(chong)

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-343M

343 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343M+CP

343 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400M

400 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400M+CP

400 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515M

515 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515M+CP

515 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800M

800 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800M+CP

800 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800BM

780-820 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800BM+CP

780-820 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030M

1030 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030M+CP

1030 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030BM

1010-1050 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030BM+CP

1010-1050 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

大功率激光應用

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-266HM

266 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-266HM+CP

266 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-343HM

343 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343HM+CP

343 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400HM

400 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400HM+CP

400 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515HM

515 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515HM+CP

515 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HM

800 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HM+CP

800 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HBM

780-820 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HBM+CP

780-820 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HM

1030 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HM+CP

1030 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HBM

1010-1050 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HBM+CP

1010-1050 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

 

旋轉分辨率：全步模式

在1/8步進模式下


0.6 arcmin
4.5 arcsec

較高轉速

50 deg/s

適用於(yu) Nd：YAG激光應用

通光孔徑

22 mm

損害閾值

>5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振比

>1:200

飛秒應用

通光孔徑

22 mm

損害閾值

大功率激光應用：

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

時間分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振比

>1:200

 

推薦設置

控製器

980-1045

電源

PS12-2.5-4

上述控製器和電源已包含在衰減器套件中，其代碼結尾為(wei) “ + CP”。

 EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝拾取係統的製造商和供應商，它們用於激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進並提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝拾取係統的製造商和供應商，它們用於激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進並提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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