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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 雷竞技竞彩底金 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE激光分束器-4
Eksma FEMTOLINE激光分束器-4
Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm，800 nm，515 nm，400 nm，343 nm，266 nm。激光損傷(shang) 閾值：> 100 mJ / cm2，50 fsec脈衝(chong) ，典型值為(wei) 800 nm。
分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩(liang) 束。
標準基板厚度為(wei) 3mm。如果您需要更薄的基板，請從(cong) Precision Thin Round Windows中選擇。
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
我們(men) 的激光組件工作在從(cong) UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜範圍內(nei) ，並在太赫茲(zi) （1-5 THz）範圍內(nei) 工作，可在科學，工業(ye) ，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍(jun) 事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專(zhuan) 門從(cong) 事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體(ti) 製成的平麵光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光麵。該公司還擁有的IBS塗層設備，球麵，軸錐和非球麵鏡片CNC製造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔淨室設備，超快電光脈衝(chong) 拾取係統製造技術部門和質量控製設備。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定製的光學和晶體(ti) 組件。但是，我們(men) 還提供了廣泛的標準目錄產(chan) 品，可以快速實現現成的交付。
產(chan) 品型號
波長-343 nm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
031-7620A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
031-7620P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
031-7620S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
031-7630A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
031-7630P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
031-7630S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
031-7650A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
031-7650P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
031-7650S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
031-7670A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
031-7670P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
031-7670S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
031-7680A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
031-7680P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
031-7680S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
032-7620A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
032-7620P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
032-7620S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
032-7630A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
032-7630P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
032-7630S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
032-7650A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
032-7650P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
032-7650S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
032-7670A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
032-7670P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
032-7670S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
032-7680A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
032-7680P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
032-7680S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
035-7620A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
035-7620P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
035-7620S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
035-7630A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
035-7630P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
035-7630S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
035-7650A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
035-7650P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
035-7650S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
035-7670A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
035-7670P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
035-7670S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
035-7680A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
035-7680P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
035-7680S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 343 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表麵平整度 | 633 nm時為(wei) λ/ 10 |
S1表麵質量 | 20-10表麵光潔度（MIL-PRF-13830B） |
S2表麵平整度 | 633 nm時為(wei) λ/ 10 |
S2表麵質量 | 20-10表麵光潔度（MIL-PRF-13830B） |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
平行性 | 30弧秒 |
倒角 | 在45°典型值為(wei) 0.3mm |
鍍膜
技術 | 電子束多層電介質 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。 不溶於(yu) 實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
入射角 | 45±3° |
背麵防反射鍍膜 | R <0.5％ |
激光損傷(shang) 閾值 | > 100 mJ / cm2，50 fsec脈衝(chong) ，典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
我們(men) 的激光組件工作在從(cong) UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜範圍內(nei) ，並在太赫茲(zi) （1-5 THz）範圍內(nei) 工作，可在科學，工業(ye) ，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍(jun) 事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專(zhuan) 門從(cong) 事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體(ti) 製成的平麵光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光麵。該公司還擁有的IBS塗層設備，球麵，軸錐和非球麵鏡片CNC製造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔淨室設備，超快電光脈衝(chong) 拾取係統製造技術部門和質量控製設備。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定製的光學和晶體(ti) 組件。但是，我們(men) 還提供了廣泛的標準目錄產(chan) 品，可以快速實現現成的交付。
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和raybet雷竞技首页中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用raybet雷竞技首页。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英雷竞技竞彩底金的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
我們(men) 的激光組件工作在從(cong) UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜範圍內(nei) ，並在太赫茲(zi) （1-5 THz）範圍內(nei) 工作，可在科學，工業(ye) ，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍(jun) 事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專(zhuan) 門從(cong) 事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體(ti) 製成的平麵光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光麵。該公司還擁有的IBS塗層設備，球麵，軸錐和非球麵鏡片CNC製造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔淨室設備，超快電光脈衝(chong) 拾取係統製造技術部門和質量控製設備。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定製的光學和晶體(ti) 組件。但是，我們(men) 還提供了廣泛的標準目錄產(chan) 品，可以快速實現現成的交付。
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