平麵刻線衍射光柵（12.7x12.7x6mm） 製作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為(wei) 玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度並對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置並在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃後讓鑽石刀頭按精路線折回，並按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控製。

平麵刻線衍射光柵（25x25x6mm） 製作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為(wei) 玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度並對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置並在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃後讓鑽石刀頭按精路線折回，並按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控製。

平麵刻線衍射光柵（50x50x9.5mm） 製作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為(wei) 玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度並對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置並在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃後讓鑽石刀頭按精路線折回，並按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控製。

立方分光棱鏡（寬帶增透400~700nm）與(yu) 分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會(hui) 存在光束平移，鬼像以及幹涉的困擾。用於(yu) 分光及成像。45°角入射時無需長時間校準。

立方分光棱鏡（寬帶增透700~1100nm）與(yu) 分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會(hui) 存在光束平移，鬼像以及幹涉的困擾。用於(yu) 分光及成像。45°角入射時無需長時間校準。

立方分光棱鏡（寬帶增透1100~1600nm）與(yu) 分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會(hui) 存在光束平移，鬼像以及幹涉的困擾。用於(yu) 分光及成像。45°角入射時無需長時間校準。

消偏分光棱鏡（寬帶增透400~700nm）在不改變入射光偏振狀態的情況下，按標定的分光比將入射光分為(wei) 透射光束及反射光束。要注意的是，消偏分光棱鏡采用金屬誘導分光膜，所以對入射光有一定的吸收 (通常<10%),在激光功率較大的情況下，要注意這一點。

消偏分光棱鏡（寬帶增透700~1100nm）在不改變入射光偏振狀態的情況下，按標定的分光比將入射光分為(wei) 透射光束及反射光束。要注意的是，消偏分光棱鏡采用金屬誘導分光膜，所以對入射光有一定的吸收 (通常<10%),在激光功率較大的情況下，要注意這一點。